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德赢vwin 为你介绍真空镀膜史话

来源:www.yzjzgq.com发表时间:2017-06-02

真空镀膜方法的不断改进开创了真空技术在薄膜领域应用的新篇章.薄膜技术在60年代的蓬勃发展也对真空技术的发展起到了极大的推动作用.我们在美国真空镀膜学会网上看到这份介绍真空镀膜史话的资料,现在将其编译出来供我国真空科技工作者参考.这篇编译稿以确切的资料信息介绍了在这个领域内作出了贡献的科学家的名字,这是值得后人永远怀念的科学家群体.他们的成就也将为真空界的后来人所敬仰.唯一感到遗憾的是没有查明这些科学家的国藉.只在每项成果后面的括号中列举了主要的发明人或单位的名字。我国的真空镀膜史也有待于我国的同行自己整理和编写.这一讲涉及到的内容十分丰富,我们将和大家一起共同感受真空镀膜的应用快速发展的脚步声。
119世纪
真空镀膜已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。探索者的艰辛在此期间得到充分体现。1805年,开始研究接触角与表面能的关系(Young)。1817年,透镜上形成减反射膜(Fraunhofer)。1839年,开始研究电弧蒸发(Hare)。1852年,开始研究真空溅射镀膜(Grove;Pulker)。1857年,在氮气中蒸发金属丝形成薄膜(Faraday;Conn)。1874年,报道制成等离子体聚合物(Dewilde;Thenard)。1877年,薄膜的真空溅射沉积研究成功(Wright)。1880年,碳氢化合物气相热解(Sawyer;Mann)。1887年,薄膜的真空蒸发(坩埚)(Nahrwold;Pohl;Pringsheim)。1896年,开始研制形成减反射膜的化学工艺。1897年,研究成功四氯化钨的氢还原法(CVD);膜厚的光学干涉测量法(Wiener)。
220世纪的前50年
1904年,圆筒上溅射镀银获得专利(Edison)。1907年,开始研究真空反应蒸发技术(Soddy)。1913年,吸附等温线的研究(Langmuir,Knudsen,Knacke等)。1917年,玻璃棒上溅射沉积薄膜电阻。1920年,溅射理论的研究(Guntherschulzer)。1928年,钨丝的真空蒸发(Ritsehl,Cartwright等)。1930年,真空气相蒸发形成超微粒子(Pfund)。1934年,半透明玻璃纸上金的卷绕镀(Kurz,Whiley);薄膜沉积用的玻璃的等离子体清洗(Bauer,Strong)。1935年,金属纸电容器用的Cd:Mg和Zn的真空蒸发卷绕镀膜研究成功(Bausch,Mansbridge);帕洛马100英寸望远镜镜面镀铝(Strong);光学透镜上镀制单层减反射膜(Strong,Smakula);金属膜生长形态的研究(Andrade,Matindale)。1937年,使用铅反射器的密封光束头研制成功(Wright);真空卷绕蒸发镀膜研制成功(Whiley);磁控增强溅射镀膜研制成功(Penning)。1938年,离子轰击表面后蒸发取得专利(Berghaus)。1939年,双层减反射膜镀制成功(Cartwright,Turner)。1941年,真空镀铝网制成雷达用的金属箔。1942年,三层减反射膜的镀制(Geffcken);同位素分离用的金属离子源研制成功。1944年,玻璃的电子清洗研制成功(Rice,Dimmick)。1945年,多层光学滤波器研制成功(Banning,Hoffman)。1946年,用X射线法吸收法测量薄膜的厚度(Friedman,Birks);英国Goodfellow公司成立。1947年,200英寸望远镜镜面镀铝成功。1948年,美国国家光学实验室(OCLI)建立;沉积粒子的真空快速蒸发(Harris,Siegel);用光透过率来控制薄膜的厚度(Dufour)。1949年,非金属膜生长形态的研究(Schulz)。1950年,溅射理论开始建立(Wehner);半导体工业开始起步;各种微电子工业开始起步;冷光镜研制成功(Turner,Hoffman,Schroder);塑料装饰膜开始出现(holland等)。

  

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